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等离子体状态对PECVD SiC薄膜微结构的影响
在PECVD法制备SiC薄膜过程中,深入研究了工作气压及工作气体中氢稀释比例对薄膜的影响,发现以上两个参数是通过共同调整等离子体状......
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